Perlindungan alam sekitar semakin diberi perhatian, terutamanya dengan peningkatan cuaca jerebu. Kejuruteraan bilik bersih adalah salah satu langkah perlindungan alam sekitar. Bagaimana untuk menggunakan kejuruteraan bilik bersih untuk melakukan kerja yang baik dalam perlindungan alam sekitar? Mari kita bercakap tentang kawalan dalam kejuruteraan bilik bersih.
Kawalan suhu dan kelembapan dalam bilik bersih
Suhu dan kelembapan ruang bersih ditentukan terutamanya berdasarkan keperluan proses, tetapi apabila memenuhi keperluan proses, keselesaan manusia harus diambil kira. Dengan peningkatan keperluan kebersihan udara, terdapat trend keperluan yang lebih ketat untuk suhu dan kelembapan dalam proses.
Sebagai prinsip umum, disebabkan oleh ketepatan pemprosesan yang semakin meningkat, keperluan untuk julat turun naik suhu menjadi lebih kecil dan lebih kecil. Sebagai contoh, dalam proses litografi dan pendedahan pengeluaran litar bersepadu berskala besar, perbezaan dalam pekali pengembangan haba antara wafer kaca dan silikon yang digunakan sebagai bahan topeng menjadi semakin kecil.
Wafer silikon dengan diameter 100 μ m menyebabkan pengembangan linear 0.24 μ m apabila suhu meningkat sebanyak 1 darjah. Oleh itu, suhu malar ± 0.1 ℃ adalah perlu, dan nilai kelembapan secara amnya rendah kerana selepas berpeluh, produk akan tercemar, terutamanya di bengkel semikonduktor yang takut kepada natrium. Bengkel jenis ini tidak boleh melebihi 25 ℃.
Kelembapan yang berlebihan menyebabkan lebih banyak masalah. Apabila kelembapan relatif melebihi 55%, pemeluwapan akan terbentuk pada dinding paip air penyejuk. Jika ia berlaku dalam peranti atau litar ketepatan, ia boleh menyebabkan pelbagai kemalangan. Apabila kelembapan relatif adalah 50%, ia mudah berkarat. Di samping itu, apabila kelembapan terlalu tinggi, habuk yang melekat pada permukaan wafer silikon akan diserap secara kimia di permukaan melalui molekul air di udara, yang sukar untuk dikeluarkan.
Semakin tinggi kelembapan relatif, semakin sukar untuk mengeluarkan lekatan. Walau bagaimanapun, apabila kelembapan relatif di bawah 30%, zarah-zarah juga mudah diserap pada permukaan disebabkan oleh tindakan daya elektrostatik, dan sebilangan besar peranti semikonduktor terdedah kepada kerosakan. Julat suhu optimum untuk pengeluaran wafer silikon ialah 35-45%.
Tekanan udarakawalandalam bilik bersih
Bagi kebanyakan ruang yang bersih, untuk mengelakkan pencemaran luaran daripada menceroboh, adalah perlu untuk mengekalkan tekanan dalaman (tekanan statik) lebih tinggi daripada tekanan luaran (tekanan statik). Penyelenggaraan perbezaan tekanan secara amnya harus mematuhi prinsip berikut:
1. Tekanan dalam ruang bersih hendaklah lebih tinggi daripada tekanan dalam ruang tidak bersih.
2. Tekanan di ruang yang mempunyai tahap kebersihan yang tinggi hendaklah lebih tinggi daripada di ruang bersebelahan dengan tahap kebersihan yang rendah.
3. Pintu antara bilik bersih hendaklah dibuka ke arah bilik yang mempunyai tahap kebersihan yang tinggi.
Pengekalan perbezaan tekanan bergantung pada jumlah udara segar, yang sepatutnya dapat mengimbangi kebocoran udara dari jurang di bawah perbezaan tekanan ini. Jadi makna fizikal perbezaan tekanan ialah rintangan kebocoran (atau penyusupan) aliran udara melalui pelbagai celah dalam bilik bersih.
Masa siaran: Jul-21-2023